半導体製造プロセス<前工程>
レジスト塗布

4.レジスト塗布

半導体製造プロセス<前工程>のレジスト塗布

4.レジスト塗布
4.レジスト塗布 (Photoresist Coating):感光剤を塗る
ウエハ表面に「レジスト」と呼ばれる感光剤を均一に塗布します。
後の露光工程で回路パターンを転写するための準備段階です。

<レジスト塗布工程>で使用される装置

レジスト塗布装置(Spin Coater / Resist Coating System)

レジスト塗布装置
ウエハ表面に「レジスト」と呼ばれる感光剤を定着させる装置です。
本装置は「ナノメートル単位の微細加工」を前提とした、極めて薄く均一な膜厚制御を行います。
ウエハを高速回転させ、遠心力を利用してレジスト液を同心円状に広げる方式が一般的です。
※上記のイラストはAIで生成した装置イメージです。実際の装置とは異なります。


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