露光装置は、光を用いて対象物の表面に描写パターンを転写する装置です。
シリコンウエハ上に極めて微細な回路を形成するために使用されます。光の波長を制御する高度な光学系が組み込まれています。
ナノメートル単位の加工精度を追求するため、EUV（極端紫外線）やArFレーザーなどの短波長光源を使用します。