イオン注入装置は用途に応じて主に3つの装置に分類されます。
1. 高電流イオン注入装置
ソース・ドレイン形成など、高濃度の不純物注入（高ドーズ）に特化した装置です。低加速電圧を維持しつつ、ビーム電流を最大化します。
2. 中電流イオン注入装置
しきい値電圧（Vth）制御やチャネル形成など、微細な調整が必要な工程で用いられます。低〜中ドーズ領域における注入量の微細な制御をします。
3. 高エネルギーイオン注入装置
ウェル形成やイメージセンサ製造など、ウエハ深部への注入に使用されます。高周波線形加速器により、イオンを極めて高いエネルギーまで加速します。