現像装置は、シリコンウエハ上にナノメートル単位の微細パターンを形成するために使用されます。極めて高い清浄度と均一性が求められます。
ウエハを高速回転させながら現像液を滴下する「スピン現像方式」が主流です。温度、液量、回転数を精密に制御するクローズドシステムが採用されています。

枚葉式の装置にはクオーバ メガソニックが採用されています。
超音波をのせた洗浄液をノズル先端より噴射して洗浄する超音波洗浄機です。
半導体ウエハ以外にもLCD、HDDなどの超微粒子の除去にも使用されています。