半導体製造プロセス<前工程>
検査

13.検査

半導体製造プロセス<前工程>の検査

13.検査
13.検査 (Metrology/Inspection):各段階での仕上がりチェック
各プロセスの節目で、膜厚や回路の寸法、欠陥の有無を厳格にチェックします。
全ての工程において高い歩留まりと品質を維持するための要となります。

<検査工程>で使用される装置

検査装置

検査装置
検査装置は検査対象や目的に応じて使い分けられる「電子線式」と「光学式」の2つの方式があります。
電子線式検査(E-beam Inspection)
電子ビームをウエハ表面に照射し、反射・放出される電子を検出して画像化する方式です。
光の波長よりも短い電子線を用いるため、極めて高い分解能を持ちます。10nm以下の微細な欠陥や、垂直方向の深い構造(コンタクトホールの底など)の観察に適しています。高精度な反面、走査に時間を要するため、特定のエリアを詳細に検査する用途に限定される傾向があります。

光学式検査(Optical Inspection)
可視光や紫外線(UV/DUV)をウエハに照射し、その反射光の散乱や干渉を解析する方式です。
広い範囲を一括で照射・受光できるため、高速な処理が可能です。ウエハ全体の異物付着や、比較的大きなパターン欠陥のスクリーニングに適しています。電子線式に比べ圧倒的に速く、全数検査や量産ラインのインライン監視に多用されます。
※上記のイラストはAIで生成した装置イメージです。実際の装置とは異なります。


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