事例紹介：セラミック部品、SiCプレート、ポリッシングプレートの洗浄
半導体装置用部材や、パーツの洗浄は一般的な機械部品よりも高い清浄度が求められます。
このため、要求清浄度に合わせた超音波洗浄の選定が必要になります。
被洗浄物の例
セラミックウエハ
アルミナ基板
アルミナポリッシングプレート
汚れの例
パーティクル、シリカ、研磨粉
洗浄機スタイル
洗浄タンク、枚葉
使用周波数
38kHz（スポットタイプ含む）､78kHz､100kHz
使用洗浄剤
アルカリ洗剤、純水
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