事例紹介：乾燥方式で洗浄のお困りごとを解決『ガラス基板にウォーターマークが発生する』
精密なモノづくりにおいて、洗浄工程のゴールは「汚れを落とすこと」だけではありません。洗浄の品質は、後続プロセスである「乾燥」の精度まで含めて評価されるべきものです。
残留水分や乾燥ムラ、タクトタイムの停滞など、現場が抱える課題の多くは、乾燥方式の選択を見直すことで改善の糸口が見つかるケースが少なくありません。本ページでは、歩留まり向上やコスト削減に向け、製造現場の課題解決につながるソリューションの選択肢をご紹介します。
【お困りごと】
ガラス基板を純水で、すすぎした後に熱風乾燥を行っているが、シミ（ウォーターマーク）が発生する。
【想定原因】
乾燥環境の清浄度が低くて、シミ（ウォーターマーク）が発生する。
【解決策と（ユニット）の説明】
温純水引上げ乾燥に変更する
※イラストはイメージです。
乾燥方法：
ワークを低速で引き上げながら、表面張力を利用して水分を除去。ウォータースポットを抑制し、精密に乾燥させる方式。
機器の構成：
温純水貯留槽、精密定速昇降、サーボ機構、純水加熱ヒーター、クリーンエア供給ユニット（上部）
製造プロセスが高度化する中で、工程の最適化には緻密な検討が求められます。
適切なアプローチを選択することは、品質の安定化のみならず、エネルギー効率の改善や環境負荷の低減にもつながります。
現場ごとに異なる複雑な条件に対し、弊社は確かな技術力とデータに基づき、貴社の状況に即した選択肢をご提案いたします。
「自社に最適な乾燥方式が判断しにくい」「現行方式と他手法を比較検討したい」といった疑問がございましたら、ぜひお気軽に弊社へご相談ください。
専門スタッフが貴社に寄り添い、課題解決に向けた検討を全力でサポートいたします。
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