カイジョーが『ハイメガパルスクリーナー』を開発した理由

私たちカイジョーは、超音波洗浄のパイオニアとして産業洗浄の品質向上に貢献してきました。
ご存知のとおり製造工程には様々な汚れが生まれ、「どこまで落とすか」もケースバイケースです。
洗浄に対するニーズが多様化する中で、超音波洗浄が苦手とする「固着した粒子」や「しつこくこびり付いた汚れ」などでお困りのお客様からの相談も寄せられておりました。

しかしながら、そんなお客様を前にして「我々の力及ばず」で済ませるわけにはいきません。以前は高圧洗浄機選択のアドバイスなども行っておりましたが、ひと口に高圧洗浄機といっても一長一短。
どうすればもっと効率良く、しかもコストをかけずに汚れを落とすことができるのか・・・自然と研究が進んでいきました。

超音波のカイジョーから、超音波技術を使わない洗浄機

細かいバージョンアップを何度も繰り返し、ようやく自分たちが納得できる洗浄機が出来上がりました。
それがカイジョーの『ハイメガパルスクリーナー』です。

これまで培ってきた産業洗浄のノウハウのすべてをお客様に還元すべく、超音波を超え、さらに一般的な高圧洗浄を超えた、カイジョーの洗浄機の新発想ソリューションの登場です。ぜひ一度、ご自身の目でその違いをお確かめください。

『ハイメガパルスクリーナー』は従来の「高圧洗浄機」とここが違う！

高圧水 × 断続（パルス）噴射 ⇒ リフトオフ効果！

従来の高圧洗浄機は、文字通り「水圧」の威力で汚れを落とす装置です。
ワーク表面に高圧をかけた水を連続噴射することで異物（汚れ）を剥がすメカニズムのため、水圧が高ければ高いほど、対象物へダメージを与えることは否めません。
さらに、一定時間連続的に噴射し続けると、対象物の表面に「水膜」が発生します。そのため、洗浄力は時間経過と共に弱まっていくことになります。

その点、断続（パルス）噴射方式を採用したカイジョーの『ハイメガパルスクリーナー』は、断続的な水の衝撃が物体に振動を生むことに着目！この振動が「ふるい落とし効果」を生み、噴射にON-OFFをつけることで水膜の発生を防ぎ、結果として【高い洗浄力】を発揮します。

これを「リフトオフ効果」と呼びますが、『ハイメガパルスクリーナー』なら、隙間や微小穴に詰まったゴミも確実に洗浄可能！ 異物は完全に除去されるため「再付着」もありません。

また、噴射しない時間をつくることで水の総量を抑え、【節水効果】を生むばかりか、薬品や廃液処理のコストも含めた【トータルコストの削減】を実現します。
さらに、対象物へのダメージも最小限に抑えることが可能です。

従来の高圧洗浄機との違い

従来の高圧洗浄機

洗浄力

連続的な噴射によって「水膜」が発生し、洗浄力が低下。
スキマや微小穴のゴミには効果を発揮しません。

洗浄液の消費

連続的に液体を流しつづけるため、消費量が多い。

ハイメガパルス（高圧+パルス洗浄機）

洗浄力

断続的な水の衝撃によって異物をたたき出し、高い洗浄力を発揮。（リフトオフ効果）
スキマや微小穴のゴミも、確実に洗浄します。

洗浄液の消費

断続的に液体を流すため、使用液が少なく省エネ。
薬品や純水、廃液処理のコストを大幅に削減。

噴射方式とダメージの関係性

連続噴射方式（従来）

ダメージ

20〜30Mpaの圧力が局所的にかかるため、ワークの破損や、搬送ズレの恐れがあります。

断続噴射方式（ハイメガパルスクリーナー）

ダメージ

10Mpaの圧力が断続的にかかるため、ワークにダメージを与えません。

「連続噴射」と「断続噴射」の比較シミュレーション

液体の流れ

ノズルの断続噴射動作

左側のホースから水が入り、右側のチューブからエアーを取り込みます。
エアー弁で、ON（噴射)とOFF（停止）を切り替えることで、断続噴射しています。

『ハイメガパルスクリーナー』導入の３つのメリット

1.既存の設備に追加可能

既存の製造ラインに追加してお使いいただけます。
既存設備の高圧（及び低圧）ポンプに「コントロールユニット」をつけることで、超音波洗浄機では落とせなかった汚れに的確にアプローチできます。

2.トータルコスト削減

断続噴射による節水効果に加え、薬品や廃液処理のコストも含めたトータルコストを削減できます。

3.付加価値はカイジョーの持つ洗浄ソリューション

『ハイメガパルスクリーナー』は水圧やノズルの形状、及び断続運転の間隔を変えることで、洗浄性やダメージをコントロールできます。
導入時にはカイジョーの持つ洗浄ソリューションを持って、お客様のニーズに全力でお応えいたします。

食品から半導体まで、洗浄の課題を「ハイメガパルス」が解決

食品ラインの洗浄

治具などの定期洗浄に活用し、衛生面の強化を実現

搬送ガラスの洗浄

ガラスに付着した油脂汚れや指紋を除去し、品質が向上

機器メンテナンス

半導体治具の洗浄や、研磨パッドの洗浄に効果的

半導体工程での洗浄ご提案

ラップ・ポリッシュ研磨機上での洗浄

研磨工程で使われる加工油および、スクラッチの原因になるダイヤモンドスラリーの除去に最適です。
水洗浄より脱脂効果あり、パーティクル除去性に優れています。

バックグラインド・ダイシング時の洗浄

PCB基板のバリ取り・ダンシング工程やホーニング工程に最適です。
パルス洗浄によるブレードの振動で、切断性向上も見込まれます。

『ハイメガパルスクリーナー』の製品ラインナップ

2〜10MPa 高圧タイプ〈HMPC-3G〉

超音波洗浄が苦手とするこびりついた汚れや、治具に着いた頑固な汚れに最適な、高圧タイプのハイメガパルスクリーナーです。

本体に70Lタンクを搭載しており、水と薬液の混合も可能です。

ハイメガパルスノズル

供給圧力：0.5～10MPa
流量：最大3～4L/min（連続・噴射チップ無し時）
噴射チップ：65度 フラット型（標準）その他別途相談
間欠噴射頻度：最大4Hz
外形寸法：Φ41×W67.51×L135（mm）

0.5〜1MPa 中圧タイプ〈HMPC-CP〉

10μm以上の汚れや、スポットシャワーで落ちない汚れに最適な、中圧タイプのパルスクリーナーです。

※コントロールユニット単体での販売も可能 （別途相談）