株式会社カイジョーは、平成２４年1月１１日より
　　　　　　　　澁谷工業株式会社（東証・名証�T部上場）を親会社とする
　　　　　　　　シブヤグループの傘下に加わりました。

新着情報

2011.10.19 - 「ＬＥＤ　ＥＸＰ２０１１に出展いたします
                  「セミコンＪａｐａｎ２０１１に出展いたします
                  「セミコンＣｈｉｎａ２０１２に出展いたします
2011.08.06(土)〜2011.08.14(日)まで夏季休業とさせていただきま
2011.07.07 - 夏季休業のお知らせ
                   2011.08.06(土)〜2011.08.14(日)まで夏季休業とさせていただきま
                   す。ご不便をおかけしますが、何卒よろしくお願いいたします。
2011.06.27 - 出展案内 2011地球環境保護 国際洗浄産業展。
                   日時　　2011年8月31日（水）−9月2日（金）　10：00−17：00
                   会場　　東京ビッグサイト　西ホール
                   リンク　http://www.iice.jp/
2011.05.27 - 『太陽電池の洗浄技術』セミナーで講演をいたします。
                   2011年6月29日　大阪市天満橋ドーンセンター
                   講演内容
                   『結晶シリコン太陽電池製造における洗浄・表面処理技術の効率化』
                   講師紹介による割引受講枠が若干名ございます、弊社までお気軽に
                   御連絡ください。
2011.04.28 - ＧＷ休業のお知らせ
                   2011.04.29(金)〜2011.05.08(日)まで休業とさせていただきま
                   す。ご不便をおかけしますが、何卒よろしくお願いいたします。
2011.03.22 - 東京電力の計画停電による影響について
           東北地方太平洋沖地震で被災された皆様へ心よりお見舞い申し上げます。
           さて、関東地方では東京電力による計画停電が実施されておりますが、
           弊社本社は計画停電の対象エリアにございます。
           そのため、停電時間中はメールやお電話が通じない状態になっております。
           お客様、お取引先様には大変ご迷惑とご心配をおかけしておりますが、
           何卒、ご理解賜りますようお願い申し上げます。
2011.02.03 - 「セミコンＣｈｉｎａ２０１１に出展いたします


新着情報履歴

寄稿

■電子情報通信学会技術研究報告. US, 111(401), pp. 97-100 (2012).NEW

キャビテーション環境下における光ファイバーハイドロホン適用可能性の検討

巽敏之, 菊池圭, 小池義和 (芝浦工業大学), 鈴木一成 (株式会社カイジョー)

■超音波ＴＥＣＨＮＯ　大24巻第１号(通巻214号）　2012/2/1　NEW

ＨＤＤ基板及び難削材基板における超音波洗浄の一つの方法：副島潤一郎

超音波洗浄における環境条件の重要性：副島潤一郎

フェニックス�Vの開発：杉山晋

     日本工業出版


■Proc. Symposium on Ultrasonic Electronics, 32, pp. 125-126 (2011).NEW

Dependence of Cavitation Bubbles Formation on Pulsed-wave
     Conditions at 1 MHz K. Suzuki, M. Takata, Y. Imazeki, K. Han,
     T. Shimura and J. Soejima/ Kaijo Corpopation

■Jpn. J. Appl. Phys. [Volume 50, Number 5, May 2011]　NEW

Application of Novel Ultrasonic Cleaning Equipment That Uses the
     Waveguide Mode for the Single-Wafer Cleaning Process
     導波路モードを用いた超音波洗浄機用振動子の枚葉式半導体ウェーハ洗浄への
     応用／株式会社カイジョー：鈴木一成

■Proc. Advanced Metallization Conference, (2010.10), p.158.

Application of Novel Ultrasonic Cleaning Equipment Using Waveguide
     Mode for Single-Wafer Cleaning Process.
     Kazunari Suzuki/KaijoCcorporation.

■日本音響学会誌 66巻 9号 2010.9

「導波路モードを用いた超音波洗浄機用振動子による
    次世代半導体ウェーハ洗浄」 株式会社カイジョー：鈴木　一成

■産業洗浄　Ｎｏ６　2010.9　特集太陽電池製造と洗浄技術

「太陽電池洗浄への超音波の適用」 株式会社カイジョー：岡野　勝一

■月刊　トライボロジー2010.10産業洗浄技術　特集３　

「気泡挙動制御による最新半導体超音波洗浄技術」
     株式会社カイジョー：岡野　勝一

寄稿履歴

製品紹介

卓上型超音波洗浄機 ●マイコン制御　(除く50D) ●みやすいデジタルタイマー　(除く50D) ●高信頼性で長寿命 ●１００Ｄ以上の標準仕様は、総務省の型式指定を受けています

超音波洗浄機　フェニックス�V　NEW ●高洗浄力で定評のフェニックスに“�V”が新登場！ ●ＣＰＵ制御の採用で周波数自動制御の向上と、高度な動作管理/レシピ対応が可能になり、また振動子交換時の煩わしい調整も不要にしました。

ＱＵＡＶＡ　NEW ●半導体、ＨＤＤ、ＦＰＤなどの超精密洗浄に完全対応。 定評あるハイメガソニックが、最新の機能を搭載したクオーバにフルモデルチェンジ

「当社の超音波洗浄機を使用した多槽式超音波洗浄装置も取り扱っております、お気軽にご相談ください」

ボンディング装置 ●フルオートマチックワイヤボンダ「FB−880」は、ボンディング時間56ミリ秒（0.056秒）／ワイヤの超高速ボンディングスピードとボンディングパッド間隔35μmの狭ピッチ対応に加え、当社の強みである多彩なループ形成能力による幅広い品種対応性を特長とする世界最高水準の装置